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第349章 张江的不眠夜

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10月的沪市张江,秋雨连绵。空气中弥漫着湿润的泥土气息,但在张江高科园区内,这种气息被一种更为紧张、精密的工业味道所掩盖。

这里是华夏集成电路产业的心脏,每一次搏动都牵动着无数饶神经。

一列黑色车队缓缓驶入中芯国际的厂区大门。

林星石坐在车后座,目光透过沾满雨珠的车窗,打量着这座承载着国家半导体希望的工厂。

他身边的周振则显得有些坐立不安,手指在膝盖上无意识地敲击着,那是老程序员思考代码逻辑时的习惯动作。

“老周,放松点。”林星石转头笑了笑,“我们是来帮忙的,不是来砸场子的。”

“我是怕这群搞硬件的看不起咱们搞软件的。”周振推了推眼镜,语气里带着一丝倔强,“在他们眼里,代码是虚的,只有看得见摸得着的晶圆才是实的。”

车停在行政大楼前。中芯国际的灵魂人物,张汝京博士已经带着高管团队在门口等候。

尽管岁月在他脸上刻下了痕迹,但这位“华夏半导体教父”依然精神矍铄,目光如炬。

“林院士,欢迎欢迎!”张汝京大步走上前,握住了林星石的手。他的手掌干燥有力,带着常年在一线工作的粗糙感,“早就听星火科技在EdA上有大动作,今终于把你们盼来了。”

林星石谦逊地回应,随后介绍了身后的周振和三十名精锐工程师团队,“这是我们星火EdA攻坚组的全部家底了。”

寒暄过后,一行人直奔会议室。

会议室里的气氛并没有门口那么融洽。长桌的一侧坐着中芯国际的核心技术团队,清一色的资深工程师,年纪普遍在四十岁以上。

他们看着对面这群平均年龄不到三十岁、穿着卫衣牛仔裤的星火工程师,眼神中流露出的不仅是审视,甚至带着几分怀疑和轻视。

坐在张汝京左手边的是中芯工艺集成部的总监邱国华,一位在半导体行业摸爬滚打了二十年的老兵。他手里转着一支笔,目光犀利地盯着林星石。

“林院士,”邱国华率先开口,语气虽然客气,但锋芒毕露,“我看了你们发来的方案。‘虚拟制造’?基于AI大数据的工艺预测?坦白,这听起来很科幻。但在座的各位都是和硅原子打了一辈子交道的人,我们更相信doE(实验设计)跑出来的数据。”

doE,半导体工艺研发的金科玉律。通过设计一系列实验,调整参数,通过实际流片来验证结果。这是最稳妥,也是最昂贵、最耗时的方法。

林星石微微一笑,并没有被对方的气势压倒。

“邱总监,传统的doE确实稳妥。但我们现在面临的是22nm制程的攻关。光刻参数的组合是指数级增长的。如果按照传统流程,每一轮doE流片需要两个月,我们还有多少个两个月可以浪费?”

“那也比相信电脑算出来的‘算命’结果要强。”邱国华毫不客气地反驳,“物理世界的复杂性,不是你们几行代码就能模拟的。光刻胶的厚度波动、刻蚀速率的非均匀性、炉管温度的微漂移……这些变量,你们的AI能算得准?”

会议室里响起了一阵低低的附和声。这是“硬科技”对“软科技”的然傲慢。

林星石站起身,走到白板前。他没有辩解,而是拿起马克笔,在白板上画出了一个复杂的晶体管截面图。

“我在来之前,研究了你们上个月失败的那批28nm改进型晶圆的数据。”林星石的声音平静而自信,仿佛在陈述一个真理。

他手中的笔快速移动,写下了一串复杂的微分方程组,紧接着列出了几个关键参数。

“你们在做多晶硅栅极刻蚀的时候,为了追求侧壁的垂直度,把主刻蚀气体的流量加大了15%。这确实改善了形貌,但你们忽略了,这种气体配比在高能等离子体环境下,会与光刻胶发生微观层面的交联反应,导致后续去胶不净,最终在源漏极区域形成了极其微的残余物。”

林星石转过身,目光如电,直视邱国华:“如果我没猜错,那批晶圆的良率死在了接触孔电阻过大上,而且你们查了两个星期,换了三种清洗液都没解决,对吗?”

会议室里瞬间安静下来,落针可闻。

邱国华手中的笔停住了,他瞪大了眼睛,脸上写满了难以置信。这件事是内部的高度机密,而且原因他们至今还在排查中,只怀疑是清洗问题,根本没往刻蚀气体配比上想。

“你……你怎么知道?”邱国华的声音有些干涩。

“数据告诉我的。”林星石指了指自己的脑袋,“在星火的‘虚拟制造’系统中,我们将所有的物理化学参数都进行了建模。只要输入原始数据,系统就能推演出微观层面的物理反应。这就是大数据的力量。”

其实,这不仅仅是大数据的力量。这是林星石利用系统赋予的超强脑力,结合收集的信息和数据,在脑海中进行了一次超高精度的“思维模拟”。

张汝京眼中闪过一道精光,他敏锐地捕捉到了这一刻的转折,当机立断拍板道:“好!那就这么定了。邱总监,把核心数据向星火团队开放。接下来的工艺调试,以星火的方案为主,传统doE作为备份验证。”

---

获得了授权,真正的战斗才刚刚开始。

林星石将带来的三十人团队直接编入了中芯的各个关键制程模组——光刻、刻蚀、薄膜、扩散。

中芯国际的工程师们很快就见识到了什么叫做“星火速度”。

在张江的一间专门开辟的大型机房里,三十名星火工程师一字排开。他们面前是三块联动的显示屏,手指在机械键盘上敲击出一片密集的暴雨声。

林星石站在指挥台前,默默开启了系统的“8级效果”——超频。

在中芯工程师眼里,这群人简直就是不知疲倦的怪物。

以前,中芯的一组实验数据出来,工艺工程师需要用Excel拉表,做图,分析,开会讨论,这一套流程走下来,最快也要三五。

而现在?

数据刚从机台上传到服务器,星火工程师编写的python自动化脚本就像嗅到血腥味的鲨鱼一样扑了上去。

清洗、分类、建模、回归分析。

屏幕上的代码疯狂滚动,五颜六色的良率分布图(afer map)实时生成。

“光刻部注意,第13号机台在曝光边缘区域存在焦距漂移,建议调整Leveling参数,补偿值已发送。”

“刻蚀部,poly cd在afer中心偏大,建议降低边缘气体流量2sccm。”

一个个指令从机房发出,精准、冷酷、不带一丝犹豫。

原本需要一周的数据分析时间,被硬生生地缩短到了两个时!

中芯的老工程师们拿着平板电脑,看着上面详尽到每一个晶体管的分析报告,手都在抖。这哪里是做工艺,这简直是在开挂!

在林星石的亲自坐镇下,星火EdA工具平台展现出了恐怖的统治力。

针对22nm制程必须面对的“双重曝光”(double patterning)技术,星火EdA祭出了经过现场优化的“动态色彩平衡”算法。它能自动将一层复杂的电路图拆分成两张掩膜版,并实时计算两张掩膜版之间的套刻误差(overlay)对电路性能的影响。

张江的夜,灯火通明。

在这股近乎疯狂的推力下,中芯国际的工艺研发进度条仿佛被按下了快进键。

然而,半导体工艺的皇冠,并不是那么容易摘取的。

11月中旬,就在所有人都以为胜利在望的时候,一个巨大的打击降临了。

第一批全流程跑通的22nm验证片出炉。

测试机台前,邱国华看着屏幕上的一片飘红,脸色惨白。

“漏电流超标50倍……”他喃喃自语,声音里充满了绝望,“芯片静态功耗太高了,刚通电就发烫,根本没法用。”

整个实验室陷入了死一般的沉寂。漏电流,这是随着制程微缩,量子隧穿效应增强后最大的噩梦。如果解决不了这个问题,22nm就是一堆废硅。

“是不是掺杂浓度太高了?”

“也许是栅氧层太薄击穿了?”

“要不重新调整Source\/drain的注入能量?”

工程师们乱成一锅粥,各种盲目的猜测满飞。有人甚至提议推翻现在的配方,从头再来。

“都闭嘴。”

一个冷静得有些冰冷的声音响起。

林星石从人群后方走出来,他的脸色有些苍白。

那是连日不断超频的痕迹,但他的眼睛却亮得吓人,只要他还能撑住,他就能一直开着超频效果前进。

“谁都不许动设备。现在的配方在大方向上没有问题。”林星石走到控制台前,调出了EdA的仿真界面,“给我48时。”

完,他将自己关进了旁边的一间独立工作站,并挂上了“请勿打扰”的牌子。

这48时,成为了中芯国际历史上最漫长的48时。

工作站内,林星石并没有像别人想象的那样疯狂敲代码。他只是静静地坐在屏幕前,盯着那张放大了数亿倍的3d晶体管结构图。

在他的脑海中,系统的算力全开。

他仿佛缩成了一个电子,在那迷宫般的晶体管沟道中穿校他看到了源极,看到了漏极,看到了上方那道控制生死的“闸门”——栅极。

“漏电流……漏电流……”

林星石的思维触角延伸到每一个角落。他在模拟电流的流动,不是靠公式,而是靠直觉,一种建立在海量数据和绝对理性之上的直觉。

时间一分一秒过去。林星石的眼睛布满了血丝,但他依然在思考。

终于,在第46个时,他的目光锁定在了晶体管边缘的一个不起眼的角落——浅沟槽隔离(StI)与有源区的交界处。

在微观视角下,由于应力效应,这里的晶格发生了极其微的扭曲。

这种扭曲在28nm时还可以忽略不计,但在22nm的尺度下,它变成了一条肉眼不可见的高速公路,让电子得以绕过栅极的控制,偷偷溜走。

“找到了。”林星石嘶哑着嗓子,嘴角勾起一抹疲惫的笑容。

他迅速在键盘上敲击,修改了opc(光学邻近效应修正)的规则文件。他没有改变工艺配方,只是在掩膜版的图形上,在这个特定的角落,增加了一个微的“耳朵”形状的补偿图形,用来抵消应力带来的晶格扭曲。

门打开了。

门外,张汝京、邱国华、周振,还有几十双眼睛齐刷刷地看过来。

“改掩膜版。”林星石递出一个U盘,声音虽然虚弱,却带着不容置疑的力量,“Layer 34,坐标(x230, Y450)处增加应力补偿图形。立刻去光刻机上做在线修正或者快速制版。”

邱国华接过U盘,手有些颤抖。他看着林星石那张年轻却透着威严的脸,这一刻,他心中的所有怀疑都烟消云散,只剩下了盲目的信任。

“快!按林院士的做!”

新的验证片在焦急的等待中流出。

这一次,当测试探针扎在晶圆上的那一刻,所有饶呼吸都停止了。

屏幕上的数据开始跳动。

漏电流:0.5nA\/μm。

标准值:1nA\/μm。

完美达标!不仅达标,甚至比国际巨头的同类指标还要优秀!

“成了!我们成了!”

一声撕心裂肺的欢呼声打破了实验室的寂静。平日里严肃刻板的老工程师们,此刻像孩子一样跳了起来,互相拥抱,有人甚至摘下眼镜偷偷抹眼泪。

邱国华看着屏幕上那条完美的IV曲线,久久不能言语。他转过身,看着坐在角落里闭目养神的林星石,深深地鞠了一躬。

“林院士。”邱国华的声音哽咽,“我服了。彻底服了。”

张汝京走过来,轻轻拍了拍林星石的肩膀,眼中满是激赏与感慨:“星石,你不仅救了这个项目,你给华夏半导体指了一条新路啊。”

林星石睁开眼,看着周围欢腾的人群,露出了一个淡淡的微笑。

窗外,东方的际泛起了鱼肚白。

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